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TROUBLESHOOTING - 전해 연마
글쓴이 관리자 (IP: *.39.189.145) 작성일 2017-08-03 14:05 조회수 1,493
TROUBLESHOOTING

문제

표면이 polishing 되지 않거나 일부만 polishing 됨

원인:
전류 밀도가 충분치 않음
해결책:
전압을 조절한다.
원인:
전해액이 너무 오래됨
해결책:
전해액을 교체한다.
원인:
전해액의 양이 충분치 않음
해결책:
전해액을 추가한다.



Polishing 되지 않은 점이 보임

원인:
기체 기포
해결책:
- Flow rate 를 조절한다.
- 전해액의 온도를 확인한다.
- 전압을 낮춘다.



Polishing 된 표면에 에칭 현상

원인:
전류를 끈 후 입자 테두리에 화학적 손상.
해결책:
- 전류를 끈 후 즉시 시편을 제거한다.
- 부식성이 더 적은 전해액을 선택한다.



양각 현상

원인:
Polishing film 이 부족함
해결책:
- 전압을 높인다.
- 시편의 기계적 가공을 개선한다.
원인:
Polishing 시간이 너무 김
해결책:
Polishing 시간을 줄인다.



구멍이 생김

원인:
Polishing 시간이 너무 김
해결책:
- 시편의 기계적 가공을 개선한다.
- 시간을 줄인다.
원인:
전압이 너무 높음
해결책:
전압을 줄인다.
원인:
양극 레이어가 충분하지 않음
해결책:
- Flow rate 을 낮춘다.
- 다른 전해액을 사용한다.



시편 모서리 손상

원인:
Film 의 점도가 너무 높거나 낮음
해결책:
- 전압을 낮춘다.
- Flow rate 를 높인다.



시편의 중앙이 깊이 손상되거나 아예 polishing 되지 않음

원인:
Film 의 polishing 이 시편 중앙에 이루어지지 않음
해결책:
- 전압을 높인다.
- Flow rate 를 낮춘다.
- 전해액을 추가한다.



표면에 물질이 쌓임

원인:
반응 제품이 용해되지 않음
해결책:
- 전해액을 새로 교체하거나 다른 전해액을 사용한다.
- 전압을 높인다.



표면이 물결치거나 또는 변형이 남아있음

원인:
Polishing time 시간이 너무 짧음
해결책:
시간을 늘린다.
원인:
Flow rate 가 너무 높거나 낮음
해결책:
Flow rate 를 변경한다.
원인:
그라인딩 이후 남은 표면이 거침
해결책:
전해 연마에 앞선 가공 과정을 개선한다.
원인:
전해액이 너무 오래됨
해결책:
전해액을 교체한다.
원인:
(여러 재질로 이루어진) 표면 상의 다양성으로 인해 특정 부분만 polishing 됨
해결책:
다른 polishing 데이터와 다른 전해액을 함께 사용하거나 대신 기계적 연마를 사용한다.


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